Рабочий принцип субстрата нитрида кремния

Рабочий принципСиликоновый нитридский субстратв основном основан на его уникальных физических и химических свойствах, которые позволяют ему играть ключевую роль в различных высокотехнологичных областях.

Нитрид кремния (Si3n4) представляет собой неорганическое вещество с высокой теплопроводности, высокой механической прочностью, хорошей химической стабильностью и устойчивостью к тепловым ударам. Эти характеристики делают субстраты нитридов кремния широко используются в электронных устройствах, высокотемпературных инженерных деталях, передовых рефрактерных материалах в металлургической промышленности и химической промышленности.

В электронных устройствах питания принцип работы рабочих субстратов нитридов кремния в основном отражается в его тепловой диссипации и механической поддержке. Поскольку полупроводниковые устройства генерируют много тепла во время работы, а подложки нитрида кремния имеют превосходную высокую теплопроводность, они могут эффективно экспортировать тепло с устройства, чтобы обеспечить нормальную работу устройства. В то же время высокая механическая прочность субстратов нитридов кремния также позволяет ему выдерживать большое механическое напряжение и обеспечивать стабильную опору для устройства.

Кроме того, субстраты нитридов кремния также обладают хорошей химической стабильностью и устойчивостью к тепловым ударам и могут поддерживать стабильную производительность в суровых рабочих средах. Эти характеристики позволяют субстратам нитридов кремния работать нормально в экстремальных условиях, таких как высокая температура, высокое давление и сильная коррозия, дополнительно расширяя области их применения.

Таким образом, принцип работы субстратов нитридов кремния в основном основан на их высокой теплопроводности, высокой механической прочности, хорошей химической стабильности и устойчивости к тепловым ударам, которые заставляют их играть незаменимую роль в различных высокотехнологичных областях.